首页 > 其他行业标准 > YS/T 897-2013高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
YS/T 897-2013

基本信息

标准号: YS/T 897-2013

中文名称:高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法

标准类别:其他行业标准

英文名称:Methods for chemical analysis of high purity niobium—Determination of trace impurity element content—Glow discharge mass spectrometry

标准状态:已作废

发布日期:2013-10-17

实施日期:2014-03-01

作废日期:2025-05-01

出版语种:简体中文

下载格式:.pdf .zip

相关标签: 化学分析 方法 杂质 元素 测定 放电 质谱法

标准分类号

标准ICS号:冶金>>有色金属>>77.120.99其他有色金属及其合金

中标分类号:冶金>>有色金属及其合金产品>>H63稀有高熔点金属及其化合物

关联标准

替代情况:被YS/T 897-2024代替

出版信息

出版社:中国标准出版社

页数:8页

标准价格:14.0

出版日期:2014-03-01

相关单位信息

起草人:李艳芬、李宝城、刘英、孙泽明、童坚、李继东、臧慕文、李娜、程紫辉、张江峰、邱平、秦芳林、文英、王攀峰

起草单位:北京有色金属研究总院、金川集团股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司

归口单位:全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

发布部门:中华人民共和国工业和信息化部

主管部门:全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

标准简介

本标准规定了高纯铌中痕量杂质元素的测定方法,测定元素见表1。 本标准适用于高纯铌中痕量杂质元素的测定。除钽、钼、钨外各元素测定范围为1.0μg/kg~5000μg/kg,钽的测定范围为1.0μg/kg~300000μg/kg,钼和钨的测定范围为1.0μg/kg~100000μg/kg。
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。
本标准起草单位:北京有色金属研究总院、金川集团股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司。
本标准主要起草人:李艳芬、李宝城、刘英、孙泽明、童坚、李继东、臧慕文、李娜、程紫辉、张江峰、邱平、秦芳林、文英、王攀峰。

标准图片预览

YS/T 897-2013高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
YS/T 897-2013高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
YS/T 897-2013高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
YS/T 897-2013高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
YS/T 897-2013高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法

标准内容

ICS77.120.99
中华人民共和国有色金属行业标准YS/T897—2013
高纯锯化学分析方法
痕量杂质元素的测定
辉光放电质谱法
Methods for chemical analysis of highpurity niobium-Determination of trace impurityelement content-Glowdischargemassspectrometry2013-10-17发布
中华人民共和国工业和信息化部2014-03-01实施
本标准按照GB/T1.12009给出的规则起草。本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。YS/T897-2013
本标准起草单位:北京有色金属研究总院、金川集团股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司。
本标准主要起草人:李艳芬、李宝城、刘英、孙泽明、童坚、李继东、减慕文、李娜、程紫辉、张江峰、邱平、秦芳林、文英、王攀峰。1范围
高纯锯化学分析方法
痕量杂质元素的测定
辉光放电质谱法
本标准规定了高纯中痕量杂质元素的测定方法,测定元素见表1。YS/T897-—2013
本标准适用于高纯中痕量杂质元素的测定。除钼、钼、钨外各元素测定范围为1.0ug/kg~5000μg/kg,钮的测定范围为1.0μg/kg~300000μg/kg,钼和钨的测定范围为1.0ug/kg~100000μg/kg。2方法原理
试料作为阴极进行辉光放电,其表面原子被溅射而脱离试料进入辉光放电等离子体中,离子化后再被导入质谱仪中进行测定。在每一元素同位素质量数处以预设的扫描点数和积分时间对相应谱峰积分,所得面积即为谱峰强度。在缺少标准样品时,计算机根据仪器软件中的“典型相对灵敏度因子”自动计算出各元素的质量分数;有标准样品时,则需要通过在与被测样品相同的分析条件、离子源结构以及测试条件下对标准样品进行独立测定获得相对灵敏度因子,应用该相对灵敏度因子计算出各元素的质量分数。被测元素的含量以质量分数w(X)计,按式(1)计算:RSF(X/Nb) . Ix ·Am .w(Nb)
式中:
RSF(X/Nb)
3试剂与材料
--待测元素质量分数,单位为微克每千克(μg/kg);在特定辉光放电条件下测定Nb中X元素的校正系数;---待测元素X的同位素谱峰强度,cps;.-Nb元素的同位素丰度;
+-Nb元素的同位索谱峰强度,cps;--待测元素X的同位素半度;
----Nb的质量分数定义为1.00×10°μg/kg。除非另有说明,分析中所用的试剂均为优级纯;所用的水为-级水。3.1
无水乙醇。
氩气(≥99.999%)。
氢氟酸(1十9)。
锯标准样品,被测元素质量分数在50μg/kg~500ug/kg锯空白样品,要求被测元素质量分数低于被测试样的10倍以上。4仪器
(1)
高质量分辨率辉光放电质谱仪,中分辨率模式下分辨率可达3000~4000,高分辨率模式下分辨1
YS/T897—2013
率可达9000~10000。
测定同位素及分辨率见表1。测定时要求同位素Nb的谱峰强度不小于5×10°cps,峰形符合分4.2此内容来自标准下载网
辨率要求。
同位素
质量数
分辨率
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
高分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
同位素
质最数
分辨率
高分辨
中分辨
中分辨
高分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
高分辨
中分辨
中分辨
高分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
同位素
质量数
分辨率
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
中分辨
机械加工设备,能够将样品制备成所需的几何形状(块状或棒状),样品待分析面应平坦光滑。试样
试样寸要求能放人辉光放电离子源内并且能够稳定地进行辉光放电。分析步骤
试料的预处理
将加工好的试样以无水乙醇(3.1)和氢氟酸(3.3)依次清洗,吹或晾干后,装人辉光放电离子源中。6.2
空自试验
测定锯空白样品(3.5),观察被测元素的空白情况。相对灵敏度因子的测定
使用铌标准样品(3.4)得出各被测元素的相对灵敏度因子。6.4测定
6.4.1选择适当电流进行10min20min的预溅射,以清除试料表面污染YS/T897-—2013
6.4.2将辉光放电离子源溅射条件调节到分析所需要的条件,进行测量。同一溅射点连续采集的三个测量数据的精密度满足表2所列相对允许差的要求时,取其平均值作为测量结果。分析结果的计算
分析结果计算机直接给出。
允许差
实验室之间分析结果的相对偏差应不大于表2所列相对允许差。表2
含量范围w/(μg/kg)
>20~60
>60~200
>200~600
>600~2000
>2000~5000
>5000~20000
>20000~100000
>100000~300000
试验报告
试验报告应包括下列内容:
试样;
使用的标准;
分析结果及其表示;
与基本分析步骤的差异;
测定中观察到的异常现象;
试验日期。
相对允许差RD/%
897-2013
打印11期:2014年4月17HF009A
中华人民共和国有色金属
行业标准
高纯锯化学分析方法
痕量杂质元素的测定
辉光放电质谱法
YS/T897 --2013
中国标准出版社出版发行
北京市朝阳区和平里西街中2号(100013)北京市西城区三里河北街16号(100045)网址www.spc.net.cn
总编室:(010)64275323
发行中心:(010)51780235
读者服务部:(010)68523946
中国标准出版社秦皇岛印剧厂印剧各地新华书店经销
1/16印张0.5字数8下字
开本880×1230
2014年3月第一版2014年3月第一次印刷15号:155066·226666定价14.00元如有印装差错由本社发行中心调换版权专有侵权必究
举报电话:(010)68510107
小提示:此标准内容仅展示完整标准里的部分截取内容,若需要完整标准请到上方自行免费下载完整标准文档。