本标准规定了电子材料晶片参考面长度的测量方法。本标准适用于测量各种直径的硅抛光片、研磨片和切割片的参考面长度。也适用于测量砷化镓、蓝宝石和钆镓石榴石等材料晶片的参考面长度。 GB/T 13387-1992 电子材料晶片参考面长度测量方法 GB/T13387-1992 标准下载解压密码：www.bzxz.net

UDC669.782-172-415：531.71
中华人民共和国国家标准
GB/T1338792
电子材料晶片参考面长度测量方法Test method for measuring flat lengthonslicesof electronicmaterials1992-02-19发布
1992-10-01实施bzxZ.net
国家技术监督局发布
中华人民共和国国家标准
电子材料晶片参考面长度测量方法Test method for measuring flat lengthon slices of electronic materials主题内容与适用范围
本标准规定了电子材料晶片参考面长度的测量方法。GB/T13387-92
本标准适用于测量各种直径的硅抛光片、研磨片和切割片的参考面长度。也适用于测虽砷化镓、蓝宝石和傢石榴石等材料晶片的参考面长度。2引用标准
GB2828逐批检查计数抽样程序及抽样表（适用于连续批的检查）3方法提要
利用光学投影仪，把晶片参考面投影到显示屏上，使参考面一端与显示屏上的基准点对准，记录测微计读数。然后调节载物台，使参考面另一端与基准点对准，再次记录测微计读数。两次读数之差即为品片的参考面长度。
4测量仪器
4.1光学投影仪，由以下几部分构成。4.1.1光学系统，放大倍数为20倍。4.1.2载物台，X轴行程应大于品片的参考面长度，Y轴行程为0～25mm.X轴测微计精度优于25μm。
4.1.3显示屏，最小直径为254mm。4.1.4轮哪板，由半透明材料制成，板上有两条相互垂直的基准线相交于中央，在垂直基准线的中心上下，各有10个1mm间隔的刻度，见图1。国家技术监督局1992-02-19批准1992-10-01实施
GB/T13387—92
图1轮腕板
1水平基准线2一垂直基准线：3-刻度线，每格1mm4.2测微尺，由透明材料制成，至少长1mm，分刻度为0.05mm。4.3钢板尺，最小长度150mm分刻度为0.5mm。5试样
从一批产品中按GB2828计数抽样方案或商定的方案抽取试样。6测量步骤
6.1校准
6.1.1轮哪板水平基准线的校准
6.1.1.1在显示屏上放好轮廊板，使水平基准线大致与地面平行。6.1.1.2在水平基准线附近选择载物台面上某一点（一个缺陷或一颗灰尘）为参照点，其投影图像应不大于轮廊板刻度线的二分之一格。然后调节投影仪焦距，在显示屏上清晰看到参照点的投影图像。6.1.1.3沿X轴反复移动载物台，并调节轮哪板和X-Y测角仪，使参照点从显示屏的--侧移到另-侧，当参照点都落在水平基准线上时，便完成了水平校准。6.1.2光学投影仪放大倍数的校准6.1.2.1把测微尺放在光学投影仪载物台上，调节投影仪的焦距，使测微尺投影图像清晰呈现在显示屏中心。
用钢板尺量出显示屏上测微尺20格以上投影图像的长度（mm），以该长度除以分刻度值(0.05mm）和所量格数的乘积，测得实际放大倍数。6.1.2.3实际放大倍数应在19.820.2之间。6.1.3载物台X轴测微计的校准
6.1.3.1将测微计行程调到零附近。6.1.3.2调节测微计和X-Y平面测角仪，使测微尺投影图像和轮率板水平基准线对准，并使全部测微尺刻度线移到垂直基准线的一侧，见图2，记下X轴测微计的读数。2
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图2载物台X轴测微计的校准
1一水平基准线;2一垂直基准线；3载物台测微尺像6.1.3.3调节测微计，把显示屏上全部测微尺刻度线移到垂直基准线另一侧，再记下X轴测微计的读数。
6.1.3.4两次读数之差应与测微尺满刻度值相符，误差小于25um。6.2测量
6.2.1把试样放在载物台上，使参考面投影图像的中心部分落在显示屏中心处。6.2.2调整参考面投影图像，使其与水平基准线重合。6.2.2.1调节X轴测微计，将参考面从一端移到另一端，使参考面与水平基准线重合或平行。6.2.2.2如果参考面外形呈凸形，调节测角仪和X轴测微计，重复6.2.2.1条操作，使凸形参考面的高点与水平基准线相切，而两端的低点与基准线等距，见图3,并注明参考面形状。图3凸形参考面的对准
6.2.2.3如果参考面外形呈凹形，调节测角仪和X轴测微计，重复6.2.2.1条操作，使凹形参考面两端的高点与基准线相切，见图4，并注明参考面形状。图4凹形参考面的对准
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6.2.3调节X轴测微计，使参考面投影图像的左端与两基准线交点重合。6.2.4记下参考面起点的X轴测微计读数L，，精确到25pm。6.2.5调节X轴测微计，使参考面投影图像的右端与两基准线交点重合。6.2.6记下参考面终点的X轴测微计读数L..精确到25μm。6.2.7对参考面两端边缘不清晰的倒角试样，使用偏移法确定参考面两端点的位置：用显示屏上参考面两端的投影图像与水平基准线相距两个刻度的点，作为参考面长度的起点和终点，见图5，轮廓板上二格刻度相当于试样上的100um偏移。图5参考面边端使用偏移的图例
1轮屏板：2偏移基
7测量结果的计算
7.1按下式计品片参考面长度：
L=L, -J
式中：L-一品片参考面长度，mm；L一一参考面起点的测微计读数，mm；L，参考面终点的测微计读数，mm。8精度
本方法单个实验室测量2倍标准偏差为士0.54mm。9试验报告
9.1对于仲裁测量，报告包括以下内容：晶片编号：
品片标称直径：
晶片边缘状况（是否倒角）；
参考面形状：
所用偏移量；
参考面长度；
测量仪器；
本标准编号；
测单位及操作者；
测量日期。
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9.2对常规测量，只需提供a,d,f,h,i和j等六项。附加说明：
本标准由中国有色金属工业总公司提出。本标准由北京有色金属研究总院负贵起草。本标准主要起草人朱悟新、王顺有。本标准等效采用美国标准ASTMF671《电子材料晶片参考面长度测量方法》。（京）新登字023号
中华人民共和国
国家标准
电子材料晶片参考面长度测量方法GB/T13387—92
中国标准出版社出版
（北京复外三里河）
中国标准出版社秦皇岛印刷厂印刷新华书店北京发行所发行各地新华书店经售版权专有不得翻印
开本880×12301/16印张1/2字数90001992年8月第一版1992年8月第一次印刷印数1—2500
书号：155066·1-8896
标日194-13
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