YS/T 25-1992 硅抛光片表面清洗方法 YS/T25-1992 标准下载解压密码：www.bzxz.net

中华人民共和国有色金属行业标准硅抛光片表面清洗方法
1主题内容与适用范围下载标准就来标准下载网
本标规定了硅抛光片表面的清洗方法。本标准适用于硅抛光片表面的清洗。经清洗后表面再现原来的状态。本标准不适用于表面存在环氧树脂之类有机残留物的硅抛光片的清洗。2引用标准
GB6624硅抛光片表面质量月测检验方法3方法提要
YS/T 25-92
在有机试剂中将硅片进行超声清洗，用过氧化氢使其表面氧化，再用氢氟酸去除氧化膜而达到清洗表面的目的。
4试剂
4.1氟酸：01.15g/mL。
4.2过氧化氢：30%。
4.3水：电阻率大于2MQ·cm。
4.41,1,2-三氯乙烯(CCl2:CHCI)。4.5脂肪酸烷醇胺聚氧乙烯：即非离子型表面活化剂。4.6表面擦洗溶液：非离子型表面活化剂：水=1：400（体积比）。5设备
5.1超声清洗设备：工作频率20kHz，能使有机试剂加热到80℃。5.2擦片机。
5.3超净通风柜：环境洁净度为外界每升空气中0.5um以上的尘埃粒数不大于3500粒的条件下，通风柜内每升空气中0.5um以上的尘埃粒数不大于3.5粒。净化气流均勾，流线平行，初始平均风速为0. 4~0. 6 m/s。
5.4带盖石英烧杯：其形状和容积能盛放装有硅片的片架。5.5聚四氟乙烯烧杯；其形状和容积能盛放装有硅片的片架。5.6镊子和真空吸片器。
6试样
试样的抽样方案和数量由供需双方商定。中国有色金属工业总公司1992-03-09批准608
1993-01-01实施
7清洗步骤
YS/T25--92
7.1所有试剂及水在使用前都必须用0.2μm的微孔过滤器过滤。7.2对所有与硅片和清洗液接触的器具都必须仔细清洗。有的器具可采用与7.3～7.9条相似的方法进行清洗。
7.3在超净通风柜中将硅片放入片架，再把片架浸入到一个带盖的盛有氯乙烯的石英烧杯中，将烧杯放人超声清洗装置中，在75℃下清洗10士2min。7.4从烧杯中取出装有硅片的片架，并将硅片放到擦片机上，按--般的使用条件用表面擦洗溶液将硅片擦洗一遍。
7.5在室内一般环境照明下检查是否存在可见的有机沾污物质。如有有机残留物则重复7.3～7.4条步骤的操作，直至清洗下净。
7.6将盛放硅片的片架浸入到盛有沸腾过的过氧化氢（H,02)溶液的石英烧杯中，浸没5±0.5min。7.7将盛放硅片的片架放在90℃的水中连续漂洗10次，漂洗时硅片必须全部浸没。7.8将盛放硅片的片架浸人到盛放氢氟酸的聚四氟乙烯的烧杯中，在室温下保持5士0.5min7.9按7.7条漂洗盛放硅片的片架。7.10检查硅片表面是否疏蔬水，即对水是否非润凝。7.10.1如果是疏水表面，则可按GB6624的规定在窄光束下检查硅片表面是否有肉眼可见的颗粒物质。
7.10.2如果不是疏水表面，则按7.3~7.9条重新清洗。7.11硅片表面如果无可见的颗粒物质，则认为对硅片的清洗是合格的。7.12硅片表面如果有可见的颗粒物质，则按7.3～~7.9条重新清洗。附加说明：
本标准由中国有色金属工业总公司标准计量研究所提出。本标准由上海第二冶炼广负责起草。本标准主要起草人沈听士。
本标准等效采用美国标准ASTMF612-83《硅抛光片表面清洗规程》。609
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