JC/T 2068-2011 镀膜玻璃生产规程 JC/T2068-2011 标准下载解压密码：www.bzxz.net

ICS81.040
备案号：34418-2012
中华人民共和宝建材行业标雅
JC/T2068--2011
镀膜玻璃生产规程
Specification for coated glass manufacture process2011-12-20 发布
2012-07-01实施
中华人民共和国工业和信息化部发布前言
本标推接照B/T1.1—2009给出的规则起草。本标准山中国建筑材料联合会据出：本标雅中全国建筑月玻聘标准化技术委员会(SAC/TC255)归口。JIC/T2068—2011
本标准负责起草业位：浙江中力控股集团有限公司、中国建筑玻璃与工业玻璃协会。本标雅参加起苹单位：金品（集州)有限公司、案空岛耀华玻璃股份有限公司、威游蓝星玻璃股份有限公司、恪兰特工程玻璃（山)有限公司、信义玻璃工程（东莞)行限公司、上游北玻链技术1业有限公司、浙汀东亚工程玻璃有限公司本标准工要起草人：土烁、侯英兰、张恒、李会、许武教、李越、夏黎海、刘车波、龙霖星。本标准为首茨发布。
1范围
镀膜玻璃生产规程
JC/T 2068—2011
本标准规定广镀膜破璃生产的术游和定义、分类、材料、制作、成品检验以及包装、标志、运输和存。
本标推造用小磁控溅射镀哄皱离和在线化学气相沉积皱膜璃的产，2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。儿是证口期的引用文件，仅所注日期的版木适用于本义件。凡是不注已期的引用文件，其最新版本(包拓所有的修改单)适用了本文件GB3/T728—1998银锭
GB/T3620.1—2007及就合金牌号和化学成分CiB/T6382.1乎板玻璃装器具架式能装器及其试验方法GB/6382.2板股集装器具箱式集装器及其诚验方法CB/20878—2007不锈钢和耐热钢牌号及化学成分GB/TI8915.1镀膜玻第1部分：阳光控制镀膜玻璃CB/F18915.2镀膜玻璃第2部分：低射镀膜玻璃JC/T513板坡璃木箱包装
3术语和定义
下列术语利定义适旧丁本文件。3.1
靶材sputtering target
被高速荷能粒了的，可抗权或反应成膜的固休材料，3.2
磁控溅射镀膜magnetronsputteringcoating真空环境中，在电场及避场的作月下，靶材被一休辉光放电产生的荷能离子衰让，粒子从其表而射出，在被镀基体表面沉积或反成膜的下艺过程。3. 3
镀膜前驱体coatingprecursor
含有构成薄膜成分的化学物质，可通过化学反应在离退基体表面形成膜层。3.4
化学气相沉积镀膜chemiealvapordepositioncoaling将镀膜前驱体施加到亮湿基体表面，在气相-固料界面发生化学皮应，在基体装面沉积反应成膜的工艺过程。
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工艺气体processgas
磁控溅射过程中用于产生等离-下体或发牛特定化学反的一种或儿种气体。化学气相沉积过程中链膜前驱依气体、反应气体及载体气体的总称。3.6
镀膜反应器coatingreactor
在化学气相沉积镀膜过程中，将工艺气体喷射到基体表而的特趋装光。3.7
阴极cathode
在醛控溅射镀膜工艺中，承载靶材实现托溅射的装置。装置内包括醛性材料、冷印装置、好嫩装置等。
可热加工的镀膜玻璃beattreatableoatedglass指热加工后模层性能稳定，各项指标仍符合钳关国家标准或行业标准的镀膜玻璃。4分类
4.1按产品性能分为阳光控制镀膜玻廖和低辐射镀膜戒离。4.2按生产艺分为离线磁控溅射镀膜和在线化学气相沉积镀膜。5材料
5.1磁控溅射镀膜玻璃生产所用材料邀控溅射镀膜玻瑙生产所用材料包括鼓璃、靶材，工艺气体、保护膜、干燥剂等，各种材料均应符合相应国家标准或行业标准的要求以及生产工出要求，材料成有合格证，进口材料有机关证明。5.1.1玻璃
磁控溅射镀膜玻璃可选用平板玻璃、防火玻璃、钢化玻璃、夹层玻璃、长钢化玻瑙、压花玻璃、超浮法玻璃等作为毕体材料。
5.1.2靶材
磁控溅射镀膜工艺带州靶材的参见附录A。5.1.3工艺气体
工艺气体包括高纯度的氨气、氨气、微气等。5.1.4其他材料
包括保扩膜、-燥剂、隔离粉：珍球棉、情性气体等。5.2化学气相沉积镀膜玻璃材料
化学相沉积镀股玻璃生产所用材料包括玻，镀膜前拟体、工也气体等。各种材料划应符合相施困家标准或行业标泄的要求，尚无相应标准的材料应符合设计需求。材料成有合格证，进口材料应有捐关明，
5.2.1玻璃
化学气相沉积镀膜玻腐可选用平板胶瑙。超自浮法玻璃等作为材料。5.2. 2、镀膜前驱体
化学汽相沉利！镀膜工艺带门的镀前驱体可参见附录B，制作
6.1—般要求
镀膜肢璃生产企业应具备辆足生产要求的设备，并定期进行维护保养。6.1.1
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6.1.2镀膜肢璃生产企业应具备必要的量具和检测设备，并定期进行量检定。应具备的膜层检测设各在线分光光度计、离线分光光度计、耐磨试验机有方块电班测量仪。宜其备辐射率测定仪、红外分光光度计、劳度仪、台阶仪、翻端仪等。6.1.3从事镀膜玻璃牛产的作业人员，应乳备相应的专业技能并经过安个操作培训，持证上岗。6.1.4、镀膜玻璃的牛产成口备下艺操作规程、作业指导书、安食操作规程、成急方案等。避控溅射镀膜的基片宜选用近期生产的坡，必要时应进行抛光处理。6.1.5
6.1.6磁控溅射镀膜玻离生产应具备上下片台、清洗机、磁控溅射装置、生产监控、在线检测、循环冷部水系统、水处理系统等装置。6.1.7微控溅射镀膜工艺牢的基础真空度定优5×10~P。6.1.8镀膜面有为坡璃的非锅间。6.1.9清洗用去离了水湛宜大！5M2。6.2磁控溅射镀膜玻璃的制作
6. 2. 1 生产工艺流程
生产工艺流程见图1。
6.2.2生产前捡查
前消洗
扁清范
图1磁控溅射镀膜玻璃生产工艺流程图生产前应进行如验查：
消洗用去离子水的阻：
镀膜工艺室的真空度；
靶材配鼠：
工艺体的种类，纯度、压力；
e）冷却系统的工作状态；
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个）国动上、下片台装置和清洗机的下作状态：生产临控装置、在线检测装置的工作状态：g）
磁控溅射阴极.作状态。
h）中
6. 2. 3 上片
山片时应对破腐的外观质最，寸，序度，缴而削向等避行检查。6.2. 4前清洗
消洗机的水温宜在35℃～45℃之间，最后逆清洗水应使用去离了水，消洗后的玻璃表面无划伤，破角、水渍或残留水肤等缺陷，同时消洗玻璃的「煤风应经过滤处理，保证坡璃消洗后洁净、十燥。6. 2. 5 调试
根据标样设置适出的工艺参数，并进行生产试测，当试样衍合以下各项指标力可连续生产：a）可见光透射比、时见光反射比、颜色值、颜色均匀性符合产品要求：低辑射镀膜玻璃的辐射率符合产品要求状；b
耐塔性能符合产品要求；
可热加工的磁控溅射镀膜玻璃应逆行热加工性能评估，热加工后测足可见光透射比、可见光反射比、颜免、颜色均与性、辐射率、耐洗剂性等求：注：中空玻璃用材料包拓戒制、闸隔材料、密封材料、下媒剂等，各种材料均应符合相感医家标或行业标准的要求，尚无相应标准的材料应符合设计变求，材料应有介挤证，迹1材料应有相关证明。6.2.6生产过程监控
6.2.6.1应对上艺气休进行监控并保持稳定、6.2.6.2应临择镀膜玻璃可见光透射时比、川见光反射比、颜色、颜色均匀性、耀率的检测值。6.2.6.3应监控阴极的.1作电压、电流、功率值。6.2.6.4应规察阴极辉光处-J-稳是状态，现异带应及时进行调整。6.2.6.5应监控玻璃的传送过程处下稳定状态。6.2.6.6应对产品按定频次进行离线抽检：6.2.7后清洗
为检资阳光控制镀膜披璃外观质股，宫进行底清洗。6.3在线化学气相沉积镀膜玻璃的制作6.3.1生产工艺流程
生亡艺流程见图2。
6.3.2检测设备
在缆镀膜
接膜本
艺气布
透气处理
达标排放
图2在线化学气相沉积镀膜玻璃生产工艺流程图生产企业应具备浮法波璃生产线、镀膜系统及产品质量验测设备。6.3. 3标准样片
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不阅品种的使膜破璃应制作标推样片，测试膜层的光学、热学性能，将测试数括作为标样参数，6.3.4生产准备工作
生产应进行如下准备工作：
a）浮法破璨原片质尽应达到镀脱L密婴求：清理镀膜反应器、工艺管道等：b
c）调整玻璃原板宽度、温度、拉引速度、（、退火正艺参数：启动工艺气体配送装告，工艺气体指标达到镀膜要求：e）启动镀膜系统冷却装置：
启动工艺气体、镀膜前驱体、气带保护气加热装置，f
动废气处典装置：
将镀膜反应器置丁候膜区工艺位置。8.3. 5 调试
将镀膜工艺气体导入镀膜反应器。6. 3. 5. 1
6.3.5.2连续镀膜开始后按照一定规则取样并测试，试数与标样参数对比。不符合要求时，应重新训整艺签数，直到符合要求厅可作为合格产品生产，6.3.5.3镀膜所产尘废婴进行无古化处现，达划用家环保要求。6.3.6生产过程监控
6.3.6.1生过程中要对级膜工艺参数、惕树丁艺参数、退火工艺餐数进行实时监控开做适当调整。6.3.0.2镀膜期间要周期性对镀膜反应器进行清1。6.3.6.3对镀膜破璃各项性能逆行检测：a）额色均幻性检测：
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低辐射镀膜玻璃辑射牵检测方块电阻检测：b)
可见光透射比检测：
耐酸性、耐碱性、耐磨性检测。%.3.6.4对镀膜璃外观质鼠进行监控。6.3.7镀膜生产停止
6.3.7.1停止镀膜系统，退镀膜反应群。6.3.7.2返出镀膜状态。
了成品检验
镀膜玻璃的成品检验依照G3/T18915.1、GB/T18915.2的规定热行，名包装、标志、运输和购存
8.1.1应符合GB/T18915.1、GB/T18915.2、JC/T513、GB/T6382.1和GB/T6382.2的规定8.1.2包装内宜附带有该种产品的箱要加1指导及使用说明等。8.1.3磁控溅射阻光报制镀模坡璃儿镀膜面宫采川隔离粉、静心保护膜、珍珠棉等进行保护。8.1.4磁控溅射低辐射镀膜玻璃其镀膜的应采川举电保护膜或隔离粉等进行保护，每箱低辑射镀膜玻璃应采用塑料膜进行封保护，塑科包装内成旗充足量的十燃剂，必要时还可填充性气体进行保护。8.1.5在线化学气相沈积镀模破璃其镀膜而宣采川隔离粉、防军纸，防需液、诊珠棉等行保护。8.1.6保护膜，T燥剂、险离粉等保护材料在使用前减进行性能评估，保证其不对膜面产生损伤。8.2标志、运输和贮存
应符合GB/T18915.1、GB/T 18915.2的规定，6
A.1材质
附录A
（资料性附录）
磁控溅射镀膜玻璃
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常用磁控溅射镀膜玻璃靶材包括钛（Ti)靶、不锈钢(SST)靶、银（Ag）靶、锌铝(ZnA12)靶、氧化钛(TiOx)）靶、硅铝（SiAI)靶、锌锡（ZnSn50)靶、锡（Sn)靶、锯（Nbo）靶、氧化锌铝（ZAO）靶、铬（Cr）靶、课铬(NiCT）靶等，材质要求见表A1。
表A.1靶材材质
钛(Ti）靶
不锈钢（SST）艳
银(Ag）艳
锌铝（ZnA12）朝
氧化钛（Ti10.）乳
佳铝(SiA1）艳
锌锡（ZnSn50）
锡（Sm）肥
(Nb）靶
氧化锌铝（ZAO)肥
路（Cr）
锦落（NiCr）艳
靶材纯度≥99.3%
轮材统度99.97%
帮材纯度299.9%
材纯度99%
艳材纯度299.5%
靶材纯度≥99.9%
锡原料热行GB/T728-1998
中Sn=99.9%的要水
靶材纯度≥99.9%的锯（Ta
靶材纯度>99.9%
靶材纯度要求≥99.5%
靶材纯度≥99.5%
注：特殊要求的靶材由供能双方约定。A.2尺寸及允许偏差
执行683620.12007中
TA2的要惑
执行G3/20878-2007中
Q0Ur17N112Mo2的要求
A1含量（2+0.5）wt%.其余
含量为(8~12)wt%，其余
Sn含量为（50主2）wt%，其余
电2wt%的410和98t%的
Zho成
N(80±1)wt%Cr(20±1）wt%
靶材外形分为圆靶和平靶两种，靶材的尺寸及其允许偏差应符合客户图纸和设计图纸的要求。7
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B.1单下基三氨化锡(MBTC)
附录B
（资料性附录）
化学气相沉积常用镀膜前驱体
是种有机锡卤化物的泥配物，用于形成Sn0膜层，常湖下为无色或淡黄色酸性液体，具有腐蚀性质量要求：有机锡岗化物的混配物95%%，挥发性有机物≤5t%。B.2掺锑单丁基三氟化锡(MBTC:Sb)是一种锑有机锣卤化物的混配物，用于形成佛捧杂Sm0赋层，带减下为无色或说黄色酸性液休具有弼腐蚀性：
质鼠要求：翻掺杂有机镊卤化物的混配物99nt%。B.3二甲基二氯化锡(DMTC)
是一独有机锡卤化物的配物，用于形成Sn腕层，常温下为間体，其有强腐蚀性。质量要求：1要戒分二甲基：氯化锅三90wt%，甲三氯化惕≤10Wt%B.4兰氟乙酸(TFA)
用来对膜层进行掺杂，常温下为无色酸性波你，具有强腐蚀性。质量要求：主要成分三瓶艺酸≥99.9mt%。B.5硅酸四乙酯(TEOS)
用来形成锡碑载化物膜层，常温下为无色液体。质鼠腰求：主要成分硅酸四乙酯≥99%。B.6硅烷(SiH)
用于形成非品残膜层和碳础氧膜层，常温下是气体，遇空气自燃。质鼠要求：上要成分硅烷含99.999%。B.1乙烯(CH)
用于形成碳硅氧膜厚，常温下是气体，易燃。版量要求：4要成分艺烯学99.99%。8
JC/T 2068—2011
中华人民共和国
建材行业标推
镀膜玻璃生产规程
JC/T 2068-2011
中国建材工业出版社出版
建筑材料工业技术监督研究中心《原国家建筑材料工业局标雁化研究所)发行新华书店北京发行所发行各新华书店经售地矿经研院印刷厂印剧
版权所有不得翻印
开本880x12301/16印张0.875
字数22于宇
2012 年 5 月第--版 2012 年 5 月第一次印刷印数1400定价24.00元
书号：155160-060
编号：0749
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