基本信息
标准号：
SJ 20744-1999
SJ 20744-1999半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则
标准类别：电子行业标准(SJ)
发布日期：1999-11-10
实施日期：1999-12-01
出版语种：简体中文
下载格式：.rar.pdf
相关标签：
通用
杂质
红外
分析
吸收光谱
半导体
关联标准
出版信息
出版社：电子工业出版社
页数：5页
标准价格：10.0 元
出版日期：1999-11-01
相关单位信息
起草人：何秀坤、汝秀坤、李光平、李静
起草单位：电子工业部第四十六研究所
发布部门：中华人民共和国信息产业部
标准简介
本标准规定了半导体材料中杂质含量的红外吸收分析方法的术语、基本原理、仪器设备、样口制备、测量条件、测量步骤和测量结果的计算。本标准适用于在红外光谱区为透明的并在该区域产生杂质吸收带的任何半导体单晶材料红外分析方法。 SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则 SJ20744-1999
