标准分类号
中标分类号：综合>>基础标准>>A29材料防护
关联标准
采标情况：DIN 28400-4-1976 NEQ
标准简介
本标准规定了真空离子镀专业常用的术语及定义。 本标准适用于真空离子镀及与真空离子镀有关的过程。 JB/T 7505-1994 离子镀 术语 JB/T7505-1994
本标准规定了真空离子镀专业常用的术语及定义。 本标准适用于真空离子镀及与真空离子镀有关的过程。
标准内容
中华人民共和国机械行业标准 JB/T 7505-94 离子镀术语
本标准规定了真空离子镀专业常用的术语及定义。适用于真空离子镀及与真空离子镀有关的过程。
1 一般概念
1.1 真空镀膜：在真空条件下通过气相沉积过程在基体表面获得覆盖层的方法。物理气相沉积（PVD）指通过物理的方法（如蒸发、溅射等）使镀膜材料汽化并在基体表面沉积成覆盖层。
1.2 镀膜材料：指制作覆盖层所用的源始材料。同义词：镀膜物质。
1.3 覆盖层支承体：同义词：镀膜体。
1.4 溅射材料：用作溅射靶的材料。同义词：靶材料。
1.5 覆盖层材料：构成覆盖层的材料。同义词：覆盖层物质。
1.6 镀膜速率：单位时间内沉积于单位面积基体表面的覆盖层材料量。同义词：沉积速率。
1.7 入射角：入射到基体表面上的粒子方向与入射点法线之间的夹角。
1.8 蒸发角：离开蒸发器表面的蒸汽流所形成的立体角。
1.9 溅射：利用获能粒子所传递的动量使镀膜材料原子进入气相的过程。
1.10 离子轰击：离子冲击电极表面并与电极相互作用的过程。
1.11 离子轰击清洗：借助于离子轰击，使基体表面净化和活化的过程。
1.12 膜-基界面：膜与基体间形成的界面。
1.13 离化率：离子镀过程中，离化粒子占总粒子数的百分比。
1.14 活化极：在离子镀装置中，为提高离化率而加入的电子发射极。
1.15 蒸发率：单位时间从蒸发源单位面积上蒸发出的镀膜材料量。
1.16 偏压：偏离零电位施加于基体的偏置电压。
2 方法
2.1 真空蒸镀：通过加热蒸发镀膜材料的真空镀膜方法。
2.2 反应真空蒸镀：通过气相反应获得所需化学组成和结构的覆盖层的真空蒸镀方法。
2.3 同时蒸镀：来自一个或多个蒸发源或溅射源的不同蒸发材料同时沉积在基体上的真空镀膜方法。
2.4 感应蒸镀：通过感应加热蒸发镀膜材料的镀膜方法。
2.5 电子束蒸镀：通过电子束加热蒸发镀膜材料的镀膜方法。
2.6 激光束蒸镀：通过激光束加热蒸发镀膜材料的镀膜方法。
2.7 电阻加热蒸镀：通过电阻加热蒸发镀膜材料的镀膜方法。
2.8 电弧蒸镀：通过电弧放电蒸发镀膜材料的镀膜方法。
2.9 离子束蒸镀：通过离子束加热蒸发镀膜材料的镀膜方法。
2.10 空心阴极等离子电子束蒸镀：通过由空心阴极内引出的高密度等离子电子束加热蒸发镀膜材料的镀膜方法。
2.11 热阴极等离子电子束蒸镀：通过由热灯丝引出的高密度等离子电子束加热蒸发镀膜材料的镀膜方法。
2.12 溅射镀：通过溅射沉积覆盖层的方法。
2.13 反应溅射镀：引入化学反应的溅射镀。
2.14 偏压溅射镀：在基体上施加偏压的溅射镀。
2.15 直流二极溅射镀：在两极之间施加直流电压的溅射镀。
2.16 不对称的交流溅射镀：在两极之间施加不对称交流电压的溅射镀。
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