本准则的范围是制定有关光掩模缺陷分类用的标准术语，并规定缺陷大小的表达方法。确定光掩模缺陷时应遵循这个准则。 GB/T 16880-1997 光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则 GB/T16880-1997 标准下载解压密码：www.bzxz.net

GB/T 16880--1997
本标准等同采用1994年SEMI标准版本“微型构图”部分中的SEMIP22一93&光掩模缺陷分类和尺寸义的准则(Guidelines fur photornask delect classilication and size delinition)。SEMI标准是国际上公认的一套半导体设备和材料国际标准。SEMIP22—93《光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则是其中的-项，它将与已经转化的SEMIP192%硬面光掩模基板\,SEMIP2一86硬面光掩模用铬薄膜》.SEMIP3—90&硬面感光板巾光致抗剂和电子抗蚀剂》,SEMIP4:92≤圆形石英玻璃光掩模基板》，SEMIP6—88《光掩模定位标记规范》及SEMIP19—92用于集成电路制造技术的检测图形单元规范》和SEMIP21--92《掩模曝光系统精密度和准确度表示准则》两项SEMI标准形成个微型构图标准系列，并为今后还要继续转化SEMIP23一93%掩模缺陷检测系统灵敏度分析所用的特制缺陷测试掩模及灵敏度评估方法准则》标准提供规范依据。本标推是根据SEMI标推P22一93光掩模缺陷分类租尺可定义的推则》制定的，在技术内容上等同地来用了该国际标准，
本标准的格式和结构按国标GB/T1.1一1993第一单元第一部分的规定编制。本标准从 1998 年 3 月 1 日实施。本标准由中国科学院提出。
本标准由电子下业部标雅化研究所归口。本标准起草单位，中国科学院微电子巾心。本标催七要起草人：陈宝钦，靡森锦，愿温初..com1范围
中华人民共和国国家标准
光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则Guidelines for pholomask defect classificationand size definitlon
GB/T16880---1997
本准则的范翻是制定有关光掩模缺陷分类用的标准术语，并规定缺陷大小的表达方法.确定光掩模缺陷时应遵循这个准则。
2引用标准
下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用面构成为本标准的条文。木标准出版时，所示版木均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。SJ/T10584—94微电子学光掩蔽技术术语3掩模缺陷的类别
3.1掩模图形缺陷mask pattern delect3.1.1形状缺陷shapedefect
3.1.1.1不透明缺陷opaguedefccta）小点dot(近义词：小岛island opaguespot）；b）轿连bridge!
c）凸起folrusion(在不透明图形l)：d）外扩extension(不透明图形边线）：e）过大oversize(不透明图形)；f）缺口intrusion(在透明图形上:)；g）内缩truncation(透明图形边线），h）过小undergize(透明图形）。3.1.1.2透明缺陷clear defect
a）针孔hole(pinhole),
h）空白space
c）缺口intrusion（在不透明图形上）；d）内缩truncation(不透明图形边线）；c）过小undersize（不透明图形；f)）凸起protrusion（在透明图形上）；g）外扩extension（透明图形边线）：h）过大oversize(透明图形）。3.1.2错位误差misplacement crror3.1.2.1拼接误差buttingerror（stitching error）国家技术监督局1997-06-20批准1998-03-01实施
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3.1.2.2套准误差regisLrationerro1(ovcrlayerror）3.1.3透光度缺陷tone defect
3.1.3.1半透明的图形patternhalf tone3.1.3.2半透明的不透明缺陷opaquedefecthalf tone3.1.3.3半透明的透明缺陷cleardefecthalf tone3.1.4图形丢失patterndisappearancc3.1.4.1不透明图形丢失opaquepatterndlisappearancc3.1.4.2透明图形失clearpatterndisappearance3.1.5边缘粗精edgeroughness
3.2玻璃缺陷glass defect
a）亮斑sleck
b）小坑pit;
c）划痕serarch,
d）碎渣chip：
e）细槽纹striationt
f）抛光伤痕pulishing mark；www.bzxz.net
g）变色discoluri
h）气泡lubbles。
3.3其他缺陷miscellianeous defect.3.3.1由十各种不明原因如晶体牛长、静电损或有机物淀积等而产生的不应有的透明点或不透明点。
4光掩模缺陷大小的定义
4.1孤立缺陷isnlated defect
远离图形的形状缺陷称为孤立缺陷，小点或针孔属士这种类型的缺陷。其人小用“宽度\和“高度”来描述，孤立缺的宽度用X方向的尺寸来表示，离度旧Y方问的尺寸来表示。4.2边缘缺陷edgedefect
与图形邻接的形状缺陷称为边缘缺陷，含图形某边线外扩缺陷和内缩缺陷。但位于接触孔图形（岛状黑点图形)及其他拐角图形的顶点处因邻近效应产生的边缘缺陷称为角缺陷，其大小的定义应按照4.3项的规定。边缘缺陷用“宽度\和“高度”来描述。边缘缺陷的\宽度\用平行十图形某边方向上的尺寸来表示，“商度”用乖直于该边方向上的尺来表示。4.3角缺陷curnerdcfect
接触孔图形（帛状黑点图形)及其他拐角图形的顶点处的角缺陷按下述定义确定其大小：角缺陷的大小用\宽度”和\深度”来表示，角缺陷的\深度\用角平分线与实际图形边界相交的交点至原设计项点的距来表示（见图1)。4.4，过大和过小oversize and undersize过大和过小的定义如下（见图2)；E.=b
E,=d-c
\a\和“\是预期的目标值；“\和“d\是实测值。当E或E,为正值时，称该图形尺寸过大；当E或E，为负值时，称该图形尺寸过小。GB/T 168801997
图1角缺陷“宽度”和“深度\表示F.或E,为正值
图形尺寸过大
图2图形尺过人和过小图示
4.5错位误差misplacementerror楚
Ex或E为负值
形尺寸过小
错位误差的数值等于该图形偏离其预期位置的 X 位移量和 Y 位移量。4.6无规则形状缺陷randomlyshapeddefeet不属于4.1～4.5缺陷类别的其他无规则缺陷的大小用包围该缺陷的最小矩形的两个边长来定义。如果这个缺陷影响到图形结构，则用能包围止常图形结构边界以外的缺陷部分所用的最小矩形的两个边长来定义。
4.7透光度缺降tone defect
透光度缺陷除了要评估其大小外，还要评估其透光度。应明确说明测量时所用的被长。缺陷的尺小应与其他缺陷定义一致，
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