YS/T 893-2013电子薄膜用高纯钛溅射靶材

ICS 77.150.50 H64 YS 中华人民共和国有色金属行业标准 YS/T 893—2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材 High-purity sputtering titanium target used in electronic film 2013-10-17 发布 中华人民共和国工业和信息化部发布 2014-03-01 实施 前言 本标准按照 GB/T 1.1—2009 给出的规则起草。本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC243）归口。本标准起草单位：有研亿金新材料股份有限公司、宁波江丰电子材料有限公司。本标准主要起草人：何金江、董亭义、袁海军、罗俊锋、滕海涛、喻洁、贺听、钱红兵、周辰、刘丹、陆灵芝、王学泽、熊晓东。 1 范围 本标准规定了电子薄膜用高纯钛溅射靶材的要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存及质量证明与合同（或订单）等内容。 本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材。 2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件；凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有修改单）适用于本文件。 GB/T 1031 产品几何技术规范（GPS）表面结构轮廓法表面粗糙度参数及其数值 GB/T 4698.7 海绵钛、钛及钛合金化学分析方法 氧量、氮量的测定 GB/T 4698.14 海绵钛、钛及钛合金化学分析方法 碳量的测定 GB/T 4698.15 海绵钛、钛及钛合金化学分析方法 氢量的测定 GB/T 6394 金属平均晶粒度测定方法 GJB 1580A 变形金属超声检验方法 YS/T 837 溅射靶材—背板结合质量超声波检验方法 YS/T 891 高纯钛化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法 YS/T 892 高纯钛化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法 3 术语和定义 3.1 靶材 target 在溅射沉积技术中的阴极部分，该阴极材料在带正电荷阳离子撞击下以分子、原子或离子形式脱离阴极并在阳极表面沉积。 3.2 靶坯 target blank 阴极上用作溅射材料的部分。 3.3 背板 backing plate 用于支撑或固定靶材的部分，靶坯与背板可通过钎焊、扩散焊、机械复合或粘接等方式连接。 4 要求 4.1 产品分类 产品按结构形式分为单体靶材和复合靶材，示意结构包括靶材与背板组合形式。按形状分为圆形、矩形及异型（如三角形等）。背板材料可采用铜及铜合金、铝及铝合金等。 4.2 化学成分 高纯钛溅射靶材化学成分应符合表1规定： 钛（Ti）质量分数不小于99.9%、99.995%或99.999%（对应3N、4N5、5N等级）。 金属杂质元素包括Ag、Al、B、Ca、Co、Cr、Cu、Fe、K、Li、Mg、Mn、Mo、Na、Ni、Pb、Si、Sn、Th、U、V、W、Zn、Zr等，其含量分别满足不同纯度等级的限值要求。 杂质总量及气体元素（H、N、O、S等）含量也应满足规定限值。 注：钛含量按100%减去实测金属杂质总和计算（不含C、N、O、S、H）。 4.3 晶粒尺寸 钛溅射靶材晶粒尺寸应符合表2规定，且晶粒分布应均匀。特殊要求由供需双方协商确定。