YS/T 1124-2016磁性溅射靶材透磁率测试方法

ICS 77.120.99 H21 YS/T 1124-2016 中华人民共和国有色金属行业标准 磁性溅射靶材透磁率测试方法 Testing method on pass through flux of magnetic sputtering target 2016-07-11发布 中华人民共和国工业和信息化部发布 2017-01-01实施 前言 本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC243）提出并归口。本标准起草单位：有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院。本标准主要起草人：罗俊锋、万小勇、向磊、丁照崇、李勇军、何金江、徐国进、夏乾坤、刘晓、王越。 1 范围 本标准规定了磁控溅射用磁性靶材透磁率的术语和定义、检测设备、检验过程及结果计算等内容。本标准适用于溅射薄膜用各类磁性靶材透磁率的检验。 2 术语和定义 下列术语和定义适用于本标准。 2.1 透磁率（PTF） 直流磁场从磁性靶材一面透过另一面的比率，也称磁透率。 2.2 源磁场（source field） 使用高斯计和霍尔探头测量的贴近载物台上表面的直流磁场，单位Gs。 2.3 参考磁场（reference field） 载物台预置靶材位置处的磁场强度，其取决于霍尔探头与源磁体之间的距离。 2.4 测量磁场（measuring field） 放置靶材后，在靶材上表面位置测得的磁场强度。 3 检测设备 透磁率检测设备主要包括源磁体、载物台、高斯计和霍尔探头等，应置于无铁磁干扰环境中。 3.1 源磁体 采用马蹄形永磁铁，固定在载物台下方，两极平行于载物台表面。源磁场强度调整为825Gs±50Gs。 3.2 高斯计 为透磁率检测核心设备，测量范围0～3500Gs，精度±2%，配合霍尔探头使用。 3.3 载物台 用于承载靶材，可水平移动及旋转，用于不同半径及角度的测量。 4 检验过程 4.1 仪器校准 4.1.1 高斯计开机预热不少于3min，进行归零及霍尔探头校准。 4.1.2 调整霍尔探头至载物台表面，确认源磁场强度为825Gs±50Gs。 4.2 样品准备 4.2.1 靶材测试前应消除剩磁，在远离磁场环境下测量表面磁场，应小于2Gs，否则需退磁处理。 4.2.2 调整霍尔探头高度，使其与靶材表面间隙为1.0mm±0.5mm，固定后移开靶材记录读数作为参考磁场。 4.3 透磁率检验 4.3.1 将靶材置于载物台并固定，保证同心，探头距边缘≥25mm。 4.3.2 旋转靶材2圈以上，若起始位置偏差<2Gs则完成磁化。 4.3.3 将探头调整至设定高度并锁定。 4.3.4 记录初始读数，旋转一圈均匀取n≥5个测量点，记录测量磁场强度。 4.3.5 如需测量不同半径R位置，移动载物台后重复上述步骤。 4.3.6 每批靶材前2块按4.3.1～4.3.4重复。