中华人民共和国有色金属行业标准 YS/T1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film 2015-04-30 发布 中华人民共和国工业和信息化部发布 2015-10-01 实施 前言 本标准按照 GB/T1.1-2009 的规则起草，由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC243）提出并归口。起草单位包括宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司、株洲凯特实业有限公司、西安方科新材料科技有限公司。主要起草人：姚力军、王学泽、丁照崇、张涛、扶元初、袁海军、郑文翔、宋佳、苏国平、钱红兵、袁洁、王兴权、张玉利、王越、杜铁路。 1 范围 本标准规定了电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、订货单（或合同）等内容。本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金靶材，以下简称高纯钨及钨合金靶。 2 规范性引用文件 下列文件对本文件的应用必不可少。注日期的引用文件仅适用所注版本；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有修改单）适用。 - GB/T1031 产品几何技术规范（GPS）表面结构轮廓法表面粗糙度参数及其数值 - GB/T1804 一般公差未注公差的线性和角度尺寸公差 - GB/T3850 致密烧结金属材料与硬质合金密度测定方法 - GB/T4324.23 钨化学分析方法第23部分：硫量的测定燃烧电导法和高频燃烧红外吸收法 - GB/T4324.25、GB/T4324.26、GB/T4324.27 钨化学分析方法其他部分 - GB/T6394 金属平均晶粒度测定法 - GB/T8651 金属板材超声波板探伤方法 - YS/T837 溅射靶材背板结合质量超声波检验方法 - YS/T900 高纯钨化学分析方法痕量杂质元素测定 - YS/T901 高纯钨化学分析方法痕量杂质元素测定 3 要求 3.1 产品分类 3.1.1 外形分类：圆形、矩形及异形（如三角形等） 3.1.2 背板材料：铜及铜合金或铝及铝合金 3.1.3 根据合金材料分为纯钨靶、钨钛合金靶、钨硅合金靶 3.1.4 化学成分分为 W-99.999、WTi-99.9、WTi-99.95、WTi-99.99、WTi-99.995、WTi-99.999、WSi-99.99、WSi-99.999 八个牌号 3.2 化学成分 - 高纯钨靶的成分及杂质元素要求符合标准表 1 - 高纯钨钛靶的成分及杂质元素要求符合标准表 2 - 高纯钨硅靶的成分及杂质元素要求符合标准表 3 - 注：钨质量分数 = 100% - 非气体杂质实测质量分数总和（不含 C、N、O、H、S） - 非气体杂质和气体杂质含量要求按标准规定 - 需方如有特殊要求，由供需双方商定 4 试验方法 4.1 化学成分分析按供方现行方法进行，仲裁分析方法由双方协商确定 4.2 气体杂质及痕量元素分析采用辉光放电质谱法、脉冲加热熔融-红外吸收法、电感耦合等离子体质谱法等 5 检验规则 5.1 检查与验收：供方质量监督部门检验产品，需方复验。如有异议，书面提出并协商解决，仲裁取样由双方进行 5.2 组批：每批靶材由同一生产工艺连续生产混合料组成，批重按订货单规定 5.3 检验项目及取样：化学成分、粒度、外观质量，取样位置和数量按标准规定 6 标志、包装、运输、贮存及质量证明书 6.1 标志：每个靶材包装应注明供方名称、质量检验部门印记、产品名称及牌号、批号、净重、标准编号 6.2 包装与运输：钢桶包装，内衬塑料袋，运输防潮、防剧烈振动，存放通风、干燥仓库，避免与酸碱性介质混放 6.3 质量证明书：每批产品附质量证明书，注明供方信息、产品名称及牌号、批号、净重、件数、分析检验结果、生产或包装日期及标准编号