基本信息
标准号:
YS/T 840-2012
中文名称:再生硅料分类和技术条件
标准类别:有色金属行业标准(YS)
英文名称:Classification and technical specification for renewable crystal silicon
标准状态:现行
发布日期:2012-11-07
实施日期:2013-03-01
出版语种:简体中文
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相关标签:
再生
分类
技术
标准分类号
标准ICS号:冶金>>有色金属产品>>77.150.99其他有色金属产品
中标分类号:冶金>>有色金属及其合金产品>>H68贵金属及其合金
关联标准
出版信息
出版社:中国标准出版社
书号:155066·2-24295
页数:8页
标准价格:14.0
出版日期:2013-03-01
相关单位信息
起草人:李振国、钟宝申、赵可武、张群社
起草单位:西安隆基硅材料股份有限公司
发布部门:中华人民共和国工业和信息化部
主管部门:全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
标准简介
本标准规定了再生硅料的技术条件及分类、测试方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存、订货单等。
本标准适用于从生产、加工、使用过程中产生的可回收利用的硅料,来源包括用于生产太阳能级硅晶体的除过碳的碳极多晶硅(碳头料)、晶体硅头尾料、边皮料、埚底料、晶体硅样块、原生型废硅片等。
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。
本标准起草单位:西安隆基硅材料股份有限公司。
本标准主要起草人:李振国、钟宝申、赵可武、张群社。
本标准系首次发布。
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T1550 非本征半导体材料导电类型测试方法
GB/T1551 硅单晶电阻率测定方法
GB/T1558 硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法
GB/T14264 半导体材料术语
GB/T24574 硅单晶中Ⅲ-Ⅴ族杂质的光致发光测试方法
GB/T24579 酸浸取 原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物
GB/T24581 低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中Ⅲ、Ⅴ族杂质含量的测试方法
GB/T24582 酸浸取-电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质
SEMIPV1 用高分辨率辉光放电光谱测定法测定太阳能级硅中的痕量元素
标准内容
ICS 77.150.99
H 68
YS/T 840—2012
中华人民共和国有色金属行业标准
再生硅料分类和技术条件
Classification and technical specification for renewable crystal silicon
发布:2012-11-07
实施:2013-03-01
中华人民共和国工业和信息化部
前言
本标准按照GB/T 1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。
本标准起草单位:西安隆基硅材料股份有限公司。
主要起草人:李振国、钟宝申、赵可武等。
本标准为首次发布。
1 范围
本标准规定了再生硅料的技术条件及分类、测试方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和订货单等内容。
本标准适用于生产、加工和使用过程中产生的可回收硅料,包括用于太阳能级硅晶体生产的碳极多晶硅(碳头料)、晶体硅头尾料、边皮料、埚底料、晶体硅样块及原生型废硅片等。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡注日期的引用文件,仅注日期版本适用;凡不注日期的引用文件,其最新版本(包括修改单)适用。
GB/T 1550 非本征半导体材料导电类型测试方法
GB/T 1551 硅单晶电阻率测定方法
GB/T 1558 硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法
GB/T 14264 半导体材料术语
GB/T 24574 硅单晶中Ⅲ-V族杂质的光致发光测试方法
GB/T 24579 酸浸取原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物
GB/T 24581 低温傅立叶变换红外光谱法测定硅单晶中Ⅲ、V族杂质含量
GB/T 24582 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法测定多晶硅表面金属杂质
SEMI PV1 用高分辨率辉光放电光谱测定太阳能级硅痕量元素
3 术语和定义
GB/T 14264界定的术语及以下定义适用于本文件。
3.1 碳极多晶硅(碳头料)
在多晶硅生产过程中,包围在U型多晶硅棒碳极周围,沾连石墨的不规则多晶硅料。
3.2 单晶硅头尾料
在拉制单晶硅棒过程中形成的头尾圆锥体,也包括拉制失败形成的多晶硅棒及位错单晶。
3.3 埚底料
在拉制单晶硅棒过程中残留在石英坩埚中的硅料。
3.4 晶体硅样块
用于晶体硅棒检测和评估的测试样块。
3.5 原生型废硅片
在硅棒切割、研磨或抛光过程中产生的不合格硅片。
4 要求
4.1 技术条件及分类
再生硅料可按电阻率或杂质浓度分档,由供需双方协商确定。每一档产品需同时满足本档要求,若指标超出则降档处理。
按电阻率分档及相关参数见表1,按杂质浓度分档及相关参数见表2。
4.2 尺寸范围
再生硅料线性尺寸不小于3 mm。
4.3 外观特征
再生硅料外观应无色斑、氧化层及其他污染物。
5 测试方法
5.1 再生硅料中碳浓度测量按GB/T 1558规定进行。
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